レーザーマーカー

半導体レーザーのビームをΦ10μmに集光することで、超微細な浅溝マーキングを実現しました。
ガラエポ・フレキ基板のわずかなスペースに、1mm□の二次元コードや模造品対策の隠しマークを印字します。
オートフォーカス機能を搭載し、基板上のどこでも一定の品質を保つことが可能です。
基板の生産ラインに導入可能なインラインタイプと、セル生産向け卓上タイプの二種類をご用意しています。